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德国Hellma氟化钙(CaF₂)晶体技术参数

发布时间: 2025-12-23  点击次数: 28次

德国Hellma氟化钙(CaF₂)晶体技术参数

一、基础技术参数

  • 产品名称:氟化钙晶体(CaF₂晶体)

  • 原材料纯度:高纯度原材料

  • 生产工艺:成熟合成晶体生长工艺

  • 生产产地:德国耶拿

  • 产品类型:多晶、单晶两种可选

二、核心光学性能参数

  • 透光波段范围:130nm(深紫外)~9μm(红外),覆盖真空紫外(VUV)、深紫外(DUV)、可见光、红外(IR)全波段

  • 折射率均匀性:优于0.5ppm

  • 应力双折射:≤0.5nm/cm

  • 激光耐久性:适配193nm、248nm等准分子激光波长,具备优异长期稳定工作性能

  • 光谱色散:低色散特性,阿贝数95.23

  • 非线性折射率:低非线性折射率

  • 环境耐受性:优异的真空环境适应性、高能辐射环境稳定性

三、规格定制参数

  • 尺寸:多晶直径可达440mm,单晶直径可达250mm;厚度可定制至150mm

  • 晶体取向:支持<111>、<100>及随机取向定制

  • 表面质量:可选原始、切割、研磨、抛光等多种处理精度

四、质量认证与检测标准

  • 质量管理体系认证:ISO 9001/14001认证

  • 认证:DAkkS认证

  • 符合标准:DIN EN ISO/IEC 17025标准

  • 检测项目:全流程覆盖光学性能、机械性能、环境稳定性检测,确保批次品质一致性

五、典型应用技术适配场景

  • 半导体微光刻:248nm、193nm微光刻技术照明/投影光学系统

  • 真空技术:空间滤光片、压缩机室真空窗口

  • 科研与医疗:红外光谱传感器、医用激光器、光学相干断层成像设备

  • 天文观测:高分辨率天文观测设备光学组件

  • 特殊环境:天基光学器件(高能辐射环境)

六、技术服务参数

  • 解决方案:提供标准化产品及定制化参数设计、加工服务

  • 技术支持:全链条技术支持体系(晶体参数设计-加工-检测-交付)